플라즈마 기반 원자층 정밀 공정 기술로 세계 최고 수준의 고성능 반도체 유전막 개발
UNIST · POSTECH, DRAM 메모리 반도체용 ‘무결점’ 박막 제조 기술 개발 플라즈마의 박막 결함 제거 원리도 규명.. Int. J. Extrem. Manuf. 게재 UNIST 반도체소재부품대학원 김병조 교수와 POSTECH 기계공학과·반도체대학원 안지환 교수 공동 연구팀은 반도체 소자의 성능을 높일 새로운 공정 기술을 개발했다. 스마트폰, 노트북, 슈퍼컴퓨터까지 모든 전자기기에는 데이터를 잠시 저장하는...